Putut, Marwoto (2011) KARAKTERISASI REAKTOR PLASMA CVD UNTUK DEPOSISI DIAMOND-LIKE CARBON COATING. Telematika (22). ISSN 1979-2328
![[img]](http://repository.upnyk.ac.id/style/images/fileicons/application_pdf.png)
| PDF (Tugas Kusus) - Draft Version Available under License Creative Commons Attribution. Download (63Kb) | Preview |
Abstract
Kertas kerja ini melaporkan karakterisasi reaktor plasma CVD yang telah dirancang bangun dengan catu daya DC untuk deposisi film tipis DLC dengan gas metana (CH4) dan argon (Ar) sebagai sumber gas.Hasil eksperimen menunjukkan bahwa tegangan operasi plasma dipengaruhi oleh tekanan reaktor, laju lairan gas, jenis gas, komposisi campuran gas CH4 dan argon, jarak elektroda dan suhu katoda.
| Item Type: | Article |
|---|---|
| Subjects: | 000 Komputer, Informasi, dan Referensi Umum 600 Teknologi |
| Divisions: | Fakultas Teknologi Industri > Teknik Informatika |
| Depositing User: | Kontributor Telematika 1 |
| Date Deposited: | 21 May 2011 17:51 |
| Last Modified: | 21 May 2011 17:51 |
| URI: | http://repository.upnyk.ac.id/id/eprint/107 |
Actions (login required)
| View Item |
